日立离子研磨仪Ion Milling System
产品型号： IM4000Plus ArBlade 500
简介介绍：复合研磨系统
双模式支持：
截面研磨（Cross-section）
平面研磨（Planar）
样品保护技术：
低温控制：液氮冷却（0~-100°C），降低离子束损伤
真空转移：加工后样品隔绝大气污染
详情介绍
日立离子研磨仪 IM4000Plus 核心特性
复合研磨系统
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双模式支持：
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截面研磨（Cross-section）
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平面研磨（Planar）
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样品保护技术：
日立离子研磨仪Ion Milling System高效率研磨技术
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技术模块
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性能说明
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PLUS离子枪
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高束流密度快速粗磨
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PLUS II离子枪
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精密抛光模式（选配）
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宽范围研磨
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加工宽度 8mm，位移范围 ±5mm
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智能控制系统
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触摸屏界面：7英寸液晶触控面板
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自动化程序：
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远程管理：PC端协议控制 & 邮件通知
日立离子研磨仪Ion Milling System安装与附属要求
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参数类别
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规格
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客户自备项
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真空系统
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机械泵抽速：50Hz/0.3 m³/h
60Hz/1.62 m³/h
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8英寸SUS管道
Swagelok卡套接头
减压阀
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设备尺寸
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主机：619(W)×736(D)×312(H) mm
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安装空间
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≥1000(W)×800(D)×700(H) mm
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冷却系统
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液氮冷却，温控范围：0~-100°C
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液氮杜瓦罐及输送管线
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电源
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AC 100-240V (±10%)
50/60Hz
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D种接地：≤100 Ω
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气体消耗
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氩气（Ar）：4.32 L/min
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高纯氩气源（99.999%）
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日立离子研磨仪Ion Milling System技术注释
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低温控制功能需选配液氮冷却模块
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PLUS II离子枪为选装升级部件
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真空转移模块需搭配手套箱使用
Hitachi IM4000Plus Ion Milling System
Dual Modes Processing
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Supported Techniques:
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Cross-section milling
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Planar milling
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Sample Protection:
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Cryo-control: LN₂ cooling (0~-100°C), minimizes beam damage
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Vacuum transfer: Atmosphere-free sample handling
High-Efficiency Milling
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Module
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Function
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PLUS Ion Gun
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High-current rapid coarse milling
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PLUS II Ion Gun
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Precision polishing (Optional)
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Wide-area Processing
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Max. width 8mm, ±5mm shift range
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Control System
Installation Requirements
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Parameter
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Specification
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Customer-Supplied
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Vacuum System
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Pump speed: 50Hz/0.3 m³/h
60Hz/1.62 m³/h
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8-inch SUS tubing
Swagelok fittings
Regulator
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Unit Dimensions
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619(W)×736(D)×312(H) mm
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Room Space
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≥1000(W)×800(D)×700(H) mm
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Cooling System
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LN₂ cooling (0~-100°C)
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LN₂ Dewar & transfer line
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Power Supply
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AC 100-240V (±10%)
50/60Hz
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Class D grounding: ≤100 Ω
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Gas Consumption
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Argon: 4.32 L/min
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High-purity Ar (99.999%)
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