产品资料
DAGE4800 12寸晶圆剪切力测试仪
产品型号:Dage4800
简介介绍:

Nordson DAGE 4800 自动剪切力测试仪采用晶圆测试技术,可用于测试200毫米至450毫米的晶圆。 将成熟的技术与新的Paragon自动化软件相结合,可提供准确性、可重复性和结果稳定性。

详情介绍


Nordson DAGE 4800 12英寸晶圆剪切/焊接强度测试系统

核心优势

  1. 纳米级精度控制

    • 剪切高度复位精度:±0.25 μm

    • 矢量微调步进分辨率:20 nm(支持编程化微动定位)。

  2. 多模态成像系统

    • 三目显微+侧视校准摄像头:实现微米级特征三维对位;

    • 孔径仪高倍成像:离线失效分析+实时测试记录;

    • 图像采集系统:自动优化加载工具对准与失效判定。

  3. 全自动化晶圆处理

    • 智能晶圆托盘:渐进真空吸附+边缘防滑设计,兼容翘曲/薄晶圆;

    • CHAD处理器+Paragon™软件:一键式晶圆映射测试(随机/定点);

    • 零干预测试:自动完成对位、测试、分级、数据上传(支持SECS/GEM)。

  4. 模块化防护设计

    • 空气轴承剪切技术:减少机械振动;

    • 传感器暂存位:保护高精度力感元件;

    • 碎屑自动**站:推刀/夹爪残渣瞬时清理。

  5. 无尘室兼容性

    • 可选FFU(风扇过滤单元)+离子除静电门;

    • 光幕互锁+CCD监控:符合Class 100洁净标准。

关键参数

项目 规格
复位精度 ±0.25 μm(激光认证)
微动步进分辨率 20 nm(可编程控制)
晶圆尺寸 12英寸(300mm)
光学放大倍率 支持≤20 μm特征观测
洁净标准 可选Class 100无尘室配置
通信协议 SECS/GEM、FOUP集成

 Nordson DAGE 4800 12-inch Wafer-Level Bond Tester

Key Features

  1. Sub-Micron Precision:

    • Shear height repositioning: ±0.25 μm (certified);

    • Vector fine-tuning: 20 nm programmable step resolution.

  2. Advanced Imaging Suite:

    • Trinocular microscope + side-view camera: 3D alignment for ≤20 μm features;

    • Aperture imaging: Offline failure analysis & real-time recording;

    • Auto image acquisition: Optimizes tool alignment and failure mode classification.

  3. Full Wafer Automation:

    • Smart chuck: Graded vacuum control + anti-slip edge for warped/thin wafers;

    • CHAD handler + Paragon™: One-click wafer mapping (random/selected dies);

    • Zero-operator intervention: Auto alignment, testing, grading, SECS/GEM data upload.

  4. Reliability Engineering:

    • Air-bearing shear technology: Minimizes mechanical vibration;

    • Sensor parking position: Protects force modules;

    • Debris auto-purge station: Instant tooltip cleaning.

  5. Cleanroom Compliance:

    • Optional FFU + ionizing door;

    • Safety interlocks + CCD monitoring: Meets Class 100 standards.

Critical Specifications

Parameter Value
Repositioning Acc. ±0.25 μm (laser-verified)
Step Resolution 20 nm (programmable)
Wafer Size 12-inch (300 mm)
Optical Resolution ≤20 μm feature observation
Cleanroom Class Optional Class 100 configuration
Communication SECS/GEM, FOUP integration



粤公网安备 44030702002241号