产品资料
Nordson March AP1000 等离子清洗机Plasma Cleaning Machine
产品型号：AP1000 Plasma
简介介绍：

在微电子加工过程中，特别是在芯片贴装和丝线键合的过程中，需要对表面轻微有机污染或氧化物进行清洗，在这种场合下，需要用等离子清洗的方法进行清洗。美国MARCH 公司的等离子清洗设备在以下器件的制造过程中能起到很好地清洗作用：光电器件、微波器件、混合电路、MEMS器件、RF模块、功率器件、传感器、半导体器件、LED、分立元器件、纳米器件、声表器件。

详情介绍


Nordson March AP1000 高吞吐量等离子清洗系统

  1. 工业级可靠性设计：

    • 一体化结构：真空泵/反应腔/13.56MHz射频源全封闭集成，支持24/7连续生产

    • 滚筒式泵体：快速拆卸维护，MTTR（平均修复时间）≤15分钟

  2. HTP（高吞吐量）晶圆架**技术：

    • 垂直槽式载具架，单架支持≥20片框架

    • 大容量：12架/腔体（240片框架/批次）

  3. 四模式精密清洗：

    模式 应用场景
    强离子清洗 去除顽固氧化物
    弱离子清洗 敏感器件表面活化
    无电子清洗 防止静电损伤（ESD Sensitive）
    取胶模式 树脂残留

  4. 智能气体控制系统：

    • 4通道质量流量控制器（MFC），调控 Ar/H₂/He/N₂ 混合比例

    • 工艺气体纯度：99.999%（5N级）

关键参数

项目 规格
射频电源 13.56 MHz ±0.1%（自动阻抗匹配）
真空度 ≤5×10⁻³ Torr（双级旋片泵）
程序存储 64组配方（含SPC统计数据导出）
操控界面 10英寸触摸屏 + 实时工艺曲线显示
腔体材质 航空铝（镜面抛光，防污染）
适用器件 晶圆/陶瓷基板/敏感MEMS器件

Nordson March AP1000 High-Throughput Plasma Cleaner

Breakthrough Technologies

  1. Industrial-Grade Reliability:

    • Monoblock Design: Integrated pump/chamber/RF generator for 24/7 operation

    • Roll-Out Pump Cartridge: MTTR ≤15 mins

  2. Patented HTP (High Throughput) Cassette:

    • Vertical slot design, ≥20 frames per cassette

    • Max capacity: 12 cassettes/chamber (240 frames/batch)

  3. Four Precision Modes:

    Mode Application
    Aggressive Ion Stubborn oxide removal
    Mild Ion Surface activation for sensitive devices
    Ion-Free ESD-sensitive components
    Residue Removal Epoxy/polymer residue cleaning

  4. Smart Gas Delivery:

    • 4-channel MFC with Ar/H₂/He/N₂ blending

    • Gas purity: 99.999% (5N)

Technical Specifications

Parameter Value
RF Generator 13.56 MHz ±0.1% (auto impedance tuning)
Base Pressure ≤5×10⁻³ Torr (dual-stage rotary pump)
Recipe Storage 64 programs (SPC data export)
Control Interface 10" touchscreen + real-time monitoring
Chamber Material Aerospace aluminum (mirror-finished)
Compatible Samples Wafers/Ceramic substrates/MEMS devices



粤公网安备 44030702002241号